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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆手工分娩厂建在苏北地区划分,包括分娩8寸大光电器件晶圆,每日废水处理工艺减排物量约800吨。根据分娩方式中便用更多氢佛酸开始晶圆蚀刻,会导致废水处理工艺中氟化物含量自由高达200-300mg/L,远超国度减排物标准化(10mg/L一些)。 污废水 化学物质及来历 生产废水大部分来源于这三个部分: 晶圆蚀刻工艺流程 :含高盐浓度氟化物(HF)、氯化铵及多量高价属 无机化学机戒镜面抛光(CMP)工业废水 :含納米级硅颗粒肥料、设计络合剂 设施设备的清洗污废水 :含异丙醇、氟化物等卤素元素物 处里制作工艺具体步骤 进行"物理滤渣+沥青混凝土滤渣+广度净化"三级视频治疗系统软件: 一层解决 :加药系统氯化钙和氢脱色钙,建立氟化钙析出,氟化物洗去率达85% 2级外理 :增添PAC(缔合氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),出掉电解质溶液态环境破坏物 三类处理 :根据多媒介滤出器和特异性炭物理吸附,有水出氟化物浓硫酸浓度相对稳定在8mg/L下述 重点机具有:pH自动的调结设计、斜管悠长岁月中池、板框淤泥压滤机(淤泥脱水情况)。 终于治疗效果 新项目电脑运行五年期数据表格数据监测表格体现 : 氟化物月均浓度值:7.2mg/L(最低地方基准) COD的还原率:92% 厌氧颗粒污泥水分含量率:≤65% 年二手回收氟化钙副软件约150吨,变现教育秸秆综合采取采取

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